儀器.jpg "顯微鏡")
機(jī).png "萬 能試驗(yàn)機(jī)")
境試驗(yàn)箱.png "環(huán)境試驗(yàn)箱")
機(jī).jpg "進(jìn)口打標(biāo)機(jī)")
測量機(jī)/x5.jpg "長度測量")
測儀器.jpg "表面光學(xué)檢測")
測量機(jī).jpg "三坐標(biāo)測量")
環(huán)境場發(fā)射掃描電鏡產(chǎn)品介紹
環(huán)境場發(fā)射掃描電鏡Quattro ESEM 產(chǎn)品介紹：
Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡支持可選的環(huán)境真空加熱臺(tái)、高真空加熱臺(tái)、Thermo Scientific AutoScript 4 軟件（基于 Python 的腳本工具）以及新款 RGB 陰極發(fā)光 (CL) 檢測器。
RGB CL 檢測器可生成彩色圖像，重點(diǎn)顯示傳統(tǒng)電子或 X 射線成像技術(shù)中無法看到的樣品特性。
環(huán)境真空加熱臺(tái)適用于易放氣樣品或一定氣氛下的樣品加熱試驗(yàn)，高真空加熱臺(tái)可以在高真空模式下對(duì)樣品進(jìn)行加熱觀察，且沒有多余氣氛的干擾。
借助 AutoScript 4 軟件，用戶可對(duì)各種成像參數(shù)和載物臺(tái)移動(dòng)進(jìn)行編程，可實(shí)現(xiàn)Quattro在無人操作的情況下進(jìn)行數(shù)據(jù)采集。
Quattro ESEM環(huán)境場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用：
納米表征：
金屬和合金、斷裂、焊縫、拋光切片、磁性和超導(dǎo)電材料
陶瓷、復(fù)合材料、塑料
薄膜/涂層
地質(zhì)切片、礦物
軟材料：聚合物、藥品、濾片、凝膠、組織、植物材料
顆粒、多孔材料、纖維
原位表征：
結(jié)晶/相變
氧化/催化
材料生長
水合/脫水/潤濕/接觸角分析
拉伸（帶加熱或冷卻）
環(huán)境場發(fā)射掃描電鏡Quattro ESEM主要特點(diǎn)
動(dòng)態(tài)原位實(shí)驗(yàn)：
Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡的多功能性使其非常適用于材料科學(xué)領(lǐng)域的大部分主題。它對(duì)傳統(tǒng)的高分辨率 SEM 成像/分析以及動(dòng)態(tài)原位實(shí)驗(yàn)都非常擅長。它可以幫助研究人員研究自然狀態(tài)下的各種樣品，以獲得關(guān)于結(jié)構(gòu)和組分的最準(zhǔn)確的信息。
極大限度地減少樣品制備時(shí)間
低真空和ESEM環(huán)境掃描電鏡功能可對(duì)非導(dǎo)電和/或含水樣品進(jìn)行無電荷/無脫水成像和分析。
樣品觀察
在各種操作模式下均可實(shí)現(xiàn) SE 和 BSE 同時(shí)成像。
優(yōu)異的分析能力
優(yōu)異的分析能力來自可以最多同時(shí)使用 3 個(gè) EDS 檢測器的腔室，并具有對(duì)稱180°的 EDS 接口、WDS接口以及和EDS幾何共面的EBSD接口。對(duì)非導(dǎo)電樣品的出色分析：在低真空條件下，Quattro ESEM高溫掃描電鏡的減小電子束散射技術(shù)可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的 EDS 和 EBSD。
靈活且精確
靈活且精確的優(yōu)中心樣品臺(tái)，傾斜范圍達(dá) 105°，可從各個(gè)角度觀察樣品。
易于使用的軟件及創(chuàng)新性選項(xiàng)
直觀易用且?guī)в杏脩糁改虾统废δ艿能浖Ｊ褂酶俚氖髽?biāo)點(diǎn)擊，更快速地完成工作。新的創(chuàng)新選項(xiàng)，包括可伸縮 RGB 陰極發(fā)光 (CL) 檢測器、1100°C 高真空加熱載物臺(tái)和 AutoScript 4 軟件（基于 Python 的API腳本工具）。
環(huán)境場發(fā)射掃描電鏡技術(shù)參數(shù)
環(huán)境場發(fā)射掃描電鏡 Quattro ESEM產(chǎn)品規(guī)格：
分辨率
高真空模式
0.8nm@30kV（STEM）
1.0nm@30kV（SE）
3.0nm@1kV（SE）
低真空和環(huán)掃模式
1.3nm@30kV（SE）
標(biāo)準(zhǔn)檢測器
ETD、低真空 SED (LVD)、 ESEM SED (GSED)、紅外CCD
可選檢測器
Nav-Cam+、DBS、DBS-GAD、ESEM-GAD、ICD、STEM 3+、WetSTEM、RGB-CLD、EDS、EBSD、WDS、拉曼、EBIC 等
ChemiSEM 技術(shù)（可選）
可基于能量色散 X 射線光譜 (EDS) 進(jìn)行實(shí)時(shí)定量 元素面分布。包含點(diǎn)分析、線掃描、面分布及元素定量。
樣品臺(tái)減速（可選）
-4000 V 至 +50 V
低真空模式
高達(dá) 2600 Pa (H2O) 或 4000 Pa (N2)
樣品臺(tái)
5軸馬達(dá)優(yōu)中心樣品臺(tái)，110 x 110 mm2，105° 傾斜范圍。最大樣品重量：未傾斜位置，5 kg。
標(biāo)準(zhǔn)樣品支架
標(biāo)準(zhǔn)多樣品 SEM 支架可單獨(dú)直接安裝在載物臺(tái)上，可容納多達(dá) 18 個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品托 (? 12 mm)，無需工具即可安裝樣品
樣品倉
340 mm 內(nèi)寬，12 個(gè)接口，最多可接三個(gè) EDS 檢測器（兩個(gè)呈 180°對(duì)稱），并具有與共面 EDS共面的EBSD接口。
原位配件（可選）
軟件控制的 -20°C 至 +60°C Peltier 冷臺(tái)
軟件控制的 1,000°C 低真空/ESEM 熱臺(tái)
軟件控制的 1,100°C 高真空熱臺(tái)
軟件控制的 1,400°C 低真空/ESEM 熱臺(tái)
集成氣體注入系統(tǒng)：用于下列材料的電子束誘導(dǎo)沉積，最多支持2種氣體（其他配件可能限制可用的注氣系統(tǒng) (GIS) 數(shù)量）：
鉑、鎢、 碳
納米機(jī)械手、液氮致冷臺(tái)、電子探針/多探針臺(tái)
軟件選項(xiàng)
Thermo Scientific Maps 軟件可進(jìn)行大面積圖像自動(dòng)采集和拼接，并可與其它設(shè)備聯(lián)用
Thermo Scientific AutoScript 4 軟件；基于 Python 的應(yīng)用程序編程界面
圖形發(fā)生軟件
TopoMaps 軟件用于圖像著色及分析和 3D 表面重建
環(huán)境場發(fā)射掃描電鏡標(biāo)準(zhǔn)配置
環(huán)境場發(fā)射掃描電鏡可選配件
環(huán)境場發(fā)射掃描電鏡相關(guān)視頻
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儀器/日本Nikon顯微鏡/方JCM 6000臺(tái)式電子掃描顯微鏡.jpg "臺(tái)式電子掃描顯微鏡")
